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An optical diffuse reflectance model for the characterization of a si wafer with an evaporated SiO2 layer

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Autores

Zarzycki A.

Galeano J.

Bargiel S.

Andrieux A.

Gorecki C.

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Editor

Tipo de Material

info:eu-repo/semantics/article

Fecha

2019

Citación

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URL del Recurso

URI

https://hdl.handle.net/20.500.12622/3173

Identificador ISBN

Identificador ISSN

Identificador DOI

10.3390/s19040892

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